Керамическая подложка из нитрида алюминия обладает превосходными характеристиками теплопроводности, в основном используется в производстве полупроводников, электроники и других микроэлектронных устройств, в качестве подложки чипов и электронных компонентов, включая интегральные схемы (ИС), радиочастотные (РЧ) устройства, пьезоэлектрические компоненты, фотоэлектрические компоненты, датчики, МЭМС и другие микроэлектронные устройства. Керамическая подложка из нитрида алюминия, являющаяся высокопроизводительным материалом, может обеспечить стабильную опорную платформу, обеспечивающую нормальную работу и производительность компонентов.
1. Светодиодный чип
Керамическая подложка из нитрида алюминия обладает превосходной теплопроводностью и механической прочностью, может использоваться для изготовления светодиодных чипов высокой яркости, что значительно повышает светоотдачу светодиодов.
2. Электронные компоненты
Керамическая подложка из нитрида алюминия может использоваться для изготовления различных мощных и высокопроизводительных электронных компонентов, таких как силовые полупроводниковые приборы, микроволновые устройства, датчики, радиочастотные модули и т. д., для достижения более стабильных условий работы и более высоких показателей производительности. .
3. Фотоэлектрические устройства
Керамическая подложка AlN может использоваться при производстве оптоэлектронных деталей, включая лазерные диоды, солнечные элементы, фотодетекторы, устройства оптической связи и т. д.
4. Устройства терморегулирования
Керамические подложки из нитрида алюминия также могут использоваться для изготовления различных типов устройств терморегулирования, таких как радиатор, холодная пластина и т. д., для эффективного контроля температуры электронных компонентов и оптоэлектронных устройств, тем самым повышая их надежность и срок службы. .